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2024年12月12日

大日本印刷、次世代半導体向けＥＵＶフォトマスク開発に成功

■２ナノメートル世代以降の微細パターン解像に成功

　大日本印刷（ＤＮＰ）＜７９１２＞（東証プライム）は１２月１２日、半導体製造の最先端技術において重要な進展を遂げたと発表。同社は、２ナノメートル世代以降のロジック半導体向けＥＵＶ（極端紫外線）リソグラフィフォトマスクにおいて、これまでにない微細なパターンの解像に成功した。

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　具体的には、従来の３ナノメートル世代と比較して２０％以上縮小されたパターンを、直線や複雑な曲線を含めて同一マスク上に解像することを実現した。さらに、次世代半導体向けの高開口数（高ＮＡ）ＥＵＶリソグラフィに対応したフォトマスクの基礎評価も完了し、半導体開発コンソーシアムや関連メーカーへのサンプル提供を開始している。

　ＤＮＰは２０２７年度の２ナノメートル世代ロジック半導体向け量産フォトマスク供給を目指しており、国際研究機関ｉｍｅｃとの協力のもと、１ナノメートル世代も視野に入れた技術開発を推進している。この取り組みは、日本の半導体産業の国際競争力強化に大きく貢献するものと期待されている。

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